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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GM2000動物組織納米研磨設(shè)備

    動物組織納米研磨設(shè)備的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    更新時間

    2025-11-25

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    1

  • GMD2000染色劑研磨分散機(jī)

    染色劑研磨分散機(jī),擁有超高剪切速率,依靠強烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,可將顏料的團(tuán)聚物、絮凝物che底打散分開,形成穩(wěn)定的體系。需要指出的是研磨分散機(jī)在對球狀顆粒分散時效果xian著。

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    2025-11-24

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  • GMD2000食品超細(xì)研磨機(jī)

    食品超細(xì)研磨機(jī),GM2000系列特別適合于膠體溶液,超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外,GM在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流,因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。

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    2025-11-24

    廠商性質(zhì)

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    25

  • GMD2000水煤漿濕法研磨機(jī)

    水煤漿濕法研磨機(jī),新研發(fā)的研磨分散機(jī),可以充分適用水煤漿的生產(chǎn)工藝,研磨、分散效果更佳。

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    2025-11-19

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    58

  • GMD2000珍珠粉超細(xì)研磨機(jī)

    珍珠粉超細(xì)研磨機(jī),使用SID研磨分散機(jī)研磨,將已經(jīng)初步粉碎的顆粒狀珍珠按一定配比與水混合進(jìn)入SID管線式高剪切研磨分散機(jī),珍珠粉在SID研磨分散機(jī)中經(jīng)過數(shù)次循環(huán)后得出珍珠粉溶液,使用顯微鏡對物料粒徑進(jìn)行初步檢測,珍珠粉粒徑達(dá)到2-3μm(2000目左右)即為合格。

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    2025-11-18

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  • GMD2000在線式研磨機(jī)

    在線式研磨機(jī),采用分體式結(jié)構(gòu),轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,雙端面機(jī)械密封,在保證冷卻水的情況下可24小時連續(xù)生產(chǎn)!

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    2025-11-17

    廠商性質(zhì)

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    87

  • GMSD2000油性石墨漿料研磨設(shè)備

    油性石墨漿料研磨設(shè)備是電子材料領(lǐng)域?qū)S迷O(shè)備,采用高速轉(zhuǎn)定子與研磨介質(zhì)協(xié)同作用。通過撞擊、剪切效應(yīng)破解石墨團(tuán)聚,將顆粒細(xì)化至亞微米級,確保分散均勻。設(shè)備密封性好、可連續(xù)運行,適配油性體系,能保障漿料導(dǎo)電穩(wěn)定性,廣泛應(yīng)用于導(dǎo)電涂料、電池電極等生產(chǎn)場景。

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    2025-11-12

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  • GMD2000滑shi粉濕法超細(xì)研磨機(jī)

    滑shi粉濕法超細(xì)研磨機(jī)是非金屬礦加工核心設(shè)備,采用濕法研磨工藝與多級研磨結(jié)構(gòu)。通過介質(zhì)撞擊、剪切作用,將滑石粉顆粒細(xì)化至微米甚至亞微米級,實現(xiàn)均勻粒徑分布。設(shè)備研磨效率高、能耗低,產(chǎn)品純度高、流動性好,適配涂料、塑料、造紙等行業(yè),滿足材料填充與改性需求。

    更新時間

    2025-11-12

    廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)廠家

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